Ohmi, Tadahiro, 1939-
大見, 忠弘, 1939-
Ōmi, Tadahiro, 1939-2016
大見, 忠弘
Ōmi, Tadahiro (1939- ).
Ohmi, Tadahiro
Tadahiro Ōmi
VIAF ID: 59020457 ( Personal )
Permalink: http://viaf.org/viaf/59020457
Preferred Forms
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4xx's: Alternate Name Forms (18)
5xx's: Related Names (1)
- 551 _ _ ‡a Tokyo ‡4 ortg ‡4 https://d-nb.info/standards/elementset/gnd#placeOfBirth
Works
Title | Sources |
---|---|
Atarashii handōtai seizō purosesu to zairyō | |
Fukkatsu nihon no handōtai sangyō : Mirai o hiraku kokorozashi : Jitsuryoku o migaite yononaka no yaku ni tatō | |
Kenkyūsha kenkyū kadai sōran, 1996: | |
Nihon fukkatsu e no shishin : Mono zukuri kagaku gijutsu sozo rikkoku : Shin keiei kenkyukai nijisshunen kinen shuppan. | |
Scientific wet process technology for innovative LSI/FPD manufacturing / ed. by Tadahiro Ohmi. - Boca Raton [etc], 2006. | |
Shirikon no kagaku | |
Si(110)面金属基板SOI・Balanced-CMOS超高速高精度集積回路 | |
SOIの科学 | |
Ultraclean technology handbook, c1993- : | |
Urutora kurīn yūeruesuai gijutsu | |
Wetto saiensu ga hiraku purodakuto inobēshon, 2001: | |
ウェットサイエンスが拓くプロダクトイノベーション | |
ウルトラクリーン・プラズマプロセスシステムの開発 | |
ウルトラクリーンULSI技術 | |
シリコンの科学 | |
フッ素化学が拓くプロセスイノベーション | |
二周波数励起低運動エネルギイオン照射プロセス成膜装置の開発 | |
動作周波数10GHzを実現する極限超高速超高集積金属基板SOI集積回路 | |
半導体内部に金属領域を有する超高速集積回路の研究 | |
半導体製造プロセスと材料 = Process and materials of semiconductor equipment | |
復活!日本の半導体産業 : 未来を拓く志 : 実力を磨いて世の中の役に立とう! | |
我が国のIC関連産業 | |
新しい半導体製造プロセスと材料 | |
日本復活への指針 : ものづくり、科学技術創造立国 : 新経営研究会二十周年記念出版 | |
極限集積化シリコン知能エレクトロニクス | |
段階投資型半導体生産ラインを実現するプロセスガス解離完全制御プラズマプロセス技術 | |
気体分離配線構造を有するTaゲート金属基板SOI超高速超微細LSIの開発 | |
電流駆動シリサイド化反応を用いた超高速超微細フィールドプログラマブル集積回路 | |
知的瞬時処理複合化集積システム | |
知的電子システムのための科学的LSI製造技術の研究 | |
超LSIの完全ドライ・トータル低温製造ラインシステムの試作研究 | |
超LSI用純金属単結晶薄膜配線の研究 | |
超高速LSI対応配線構造の研究 | |
金属基板SOI・メタルゲート高誘電率絶縁膜CMOS超高速集積回路の研究 |