真壁, 利明, 1947-
真壁利明
真壁, 利明
VIAF ID: 258680609 ( Personal )
Permalink: http://viaf.org/viaf/258680609
Preferred Forms
- 100 1 _ ‡a 真壁, 利明
- 100 1 _ ‡a 真壁, 利明, ‡d 1947-
- 100 0 _ ‡a 真壁利明
4xx's: Alternate Name Forms (8)
Works
Title | Sources |
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21seiki sōzō gijutsu rikkoku eno michi | |
21世紀創造技術立国への道 | |
Advances in low temperature RF plasmas : basis for process design | |
Kakuritsukatei | |
Plasma electronics : applications in microelectronic device fabrication | |
Purazuma erekutoronikusu | |
プラズマエレクトロニクス | |
確率過程 | |
確率過程 : 理工学基礎確率の基礎からランダム・プロセスまで |