Ryssel, Heiner, 1941-....
Ryssel, H.
Ryssel, Heiner
Ryssel, H. 1941-
Heiner Ryssel
Ryssel, H. (Heiner), 1941-
VIAF ID: 94785013 ( Personal )
Permalink: http://viaf.org/viaf/94785013
Preferred Forms
- 100 0 _ ‡a Heiner Ryssel
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- 100 1 _ ‡a Ryssel, H. ‡d 1941-
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- 100 1 _ ‡a Ryssel, Heiner
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- 100 1 _ ‡a Ryssel, Heiner ‡d 1941-
- 100 1 _ ‡a Ryssel, Heiner ‡d 1941-
- 100 1 0 ‡a Ryssel, Heiner, ‡d 1941-
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- 100 1 _ ‡a Ryssel, Heiner, ‡d 1941-....
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Works
Title | Sources |
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Bidirektionale DC-Spannungswandlung für Kleinleistungsanwendungen. | |
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Ion Implantation: Equipment and Techniques Proceedings of the Fourth International Conference Berchtesgaden, Fed. Rep. of Germany, September 13–17, 1982 | |
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Langenscheidts Fachwörterbuch Mikroelektronik englisch-deutsch/deutsch-englisch | |
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Proceedings HLF semiconductor equipment and materials, contamination control and defect reduction ; Munich, Germany, November 11 - 12, 1997 | |
Proceedings of the Symposium on Ion Beam Technology on the occasion of the fiftieth birthday of professor Heiner Ryssel : Erlangen, Germany, December 9, 1992 | |
Prozesssimulation, ein wichtiges Hilfsmittel zur Entwicklung höchstintegrierter Schaltkreise | |
Simulation of semiconductor devices and processes, vol. 6 | |
Ионная имплантация, 1983: |