Yon, Jean-Jacques, 19..-...., auteur(e) en microélectronique
Yon, Jean-Jacques
VIAF ID: 32061939 ( Personal )
Permalink: http://viaf.org/viaf/32061939
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Works
Title | Sources |
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Etude théorique du dimensionnement d'une matrice bolométrique au pas de 5µm, par report de dispositifs SOI sur structures suspendues pour des applications dans l'imagerie infrarouge non refroidi | |
High frequency nano electro mechanical systems (NEMS HF) : a breakthrough in infrared imaging technology. | |
Nano systèmes électromécaniques résonants à haute fréquence (NEMS HF) : une rupture technologique pour l'imagerie infrarouge non refroidi | |
Oxidation of porous silicon: application to silicon-on-insulator structure realization. | |
Oxydation du silicium poreux : application à la réalisation de structures silicium sur isolant | |
Theoretical study of the design of a 5µm pitch bolometer matrix, by wafer bonding of SOI devices on suspended structures for applications in uncooled infrared imaging. |