Vasilʹev, V. I︠U︡.
Vasilʹev, V. I︠U︡. (Vladislav I︠U︡rʹevich)
Vasilʹev, Vladislav I︠U︡rʹevich 1953-
Васильев, В. Ю. д-р хим. наук, электроника 1953- Владислав Юрьевич
VIAF ID: 299590607 ( Personal )
Permalink: http://viaf.org/viaf/299590607
Preferred Forms
4xx's: Alternate Name Forms (13)
Works
Title | Sources |
---|---|
Borophosphosilicate glass thin films in electronics | |
Prot︠s︡essy khimicheskogo osazhdenii︠a︡ iz gazovoĭ fazy i svoĭstva fosfor- i borsilikatnykh stekloobraznykh sloev, 2002: | |
Thin film chemical vapor deposition in electronics : equipment, methodology, and thin film growth experience | |
Tonkie sloi borofosforosilikatnogo stekla v tekhnologii kremnievoæi mikroçelektroniki. | |
Васильев Владислав Юрьевич юбилейный библиографический указатель книги, статьи и другие работы за 1976-2013 гг. | |
Источники вторичного электропитания с "мягкой" коммутацией силовых ключей | |
Модели и механизмы процессов осаждения тонких слоев из газовой фазы при пониженном давлении (По данным отеч. и зарубеж. печати за 1975-1989 гг.) | |
Плазмохимическое осаждение тонких слоев в реакторах пониженного давления | |
Получение, свойства и применение слоев борофосфоросиликатного стекла в технологии интегральных микросхем (По данным отеч. и зарубеж. печати за 1982-1987 гг.) | |
Процессы химического осаждения из газовой фазы и свойства фосфор-и борсиликатных стеклообразных слоев Автореф. дис. на соиск. учен. степ. д.х.н. Спец. 02.00,21 | |
Синтез слоев нитрида и диоксида кремния осаждением из газовой фазы на основе хлорпроизводных моносилана Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. хим. наук (02.00.04) |