Scheid, Emmanuel, 1960-...., auteur(e) en systèmes électroniques
Scheid, Emmanuel 1960-....
VIAF ID: 268947502 ( Personal )
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Works
Title | Sources |
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Contribution à l'étude de la diffusion d'impuretés dans le silicium sous oxydation rôle des contraintes | |
Design realization and characterization of low temperature amorphous deposited and in situ boron doped polycristalline silicon gates. | |
ELABORATION AND CHARACTERISATION OF THIN POLYCRYSTALLIN FILMS DEPOSITED BY LPCVD FOR SOLAR CELLS APPLICATION. | |
ELABORATION ET CARACTERISATION DE COUCHES MINCES DE SILICIUM POLYCRISTALLIN DEPOSEES PAR LPCVD POUR APPLICATION PHOTOVOLTIQUE | |
Impurity diffusion in oxidized silicon : stress effect. | |
Intégration d'un capteur de gaz à oxyde semi-conducteur sur silicium | |
Méthodologie de caractérisation de paramètres thermomécaniques de matériaux pour la microélectronique | |
Modélisation cinétique et analyse structurale des dépôts de sipos élaborés par LPCVD | |
Multi-scale modelling and experimental analysis of ALD alumina : Interplay of process dynamics, chemistry and interfacial phenomena. | |
Optimisation et compréhension des performances électriques de nouvelles technologies de transistors MOS en couche mince | |
Power MOSFETs characterization under avalanche cycling for micro hybrid vehicles applications. | |
SEMI-INSULATING POLYCRYSTALLINE SILICON OBTAINED BY LOW PRESSURE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION FROM SI2H6 AND N20. | |
Silicium partiellement oxydé obtenu en phase vapeur à basse pression à partir de Si2H6 et de N2O | |
Thermomechanical characterization of thin deposited metallic film for the simulation of microelectronic power device reliability. |