Pelletier, Jacques, 1945-
Pelletier, Jacques, 1945-...., auteur en physique
Pelletier, Jacques
VIAF ID: 226401184 ( Personal )
Permalink: http://viaf.org/viaf/226401184
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Works
Title | Sources |
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Design, study and optimization of new plasma sources involving electron cyclotron resonance (ECR) : application: deposition by plasma enhanced chemical vapor deposition and sputtering. | |
Elaboration and characterization of few high-k dielectrics for microelectronic application : the importance of the network on the dielectric constant. | |
Elaboration et caractérisation de quelques diélectriques à forte permittivité avec application en microélectronique | |
ETUDE DE LA PRODUCTION ET DE LA DIFFUSION DU PLASMA DANS LES SOURCES A EXCITATION PAR RESONANCE CYCLOTRONIQUE ELECTRONIQUE REPARTIE. INFLUENCE DE LA FREQUENCE D'EXCITATION | |
Étude de l'ionisation négative de surface : application à la production de faisceaux intenses d'ions négatifs I- par ionisation de surface en transmission | |
ETUDE DES MECANISMES D'ADHESION DE COUCHES MINCES DE SILICE SUR DES POLYMERES TRAITES PAR PLASMA | |
Etude expérimentale de la gravure des polymères dans les plasmas multipolaires micro-onde à base d'oxygène et de SF6 | |
Experimental studies of 2,45 GHz ECR ions source for the production of high currents. | |
Experimental study of physico-chemical etching mechanisms of polymers in oxygen-based plasmas Application processes deep etching. | |
INVESTIGATION OF THE ADHESION MECHANISMS OF SILICA THIN FILMS ON PLASMA-TREATED POLYMERS. | |
Microwave excited plasmas | |
Physics of collisional plasmas : introduction to high-frequency discharges | |
Physique des plasmas collisionnels : application aux décharges haute fréquence | |
Physique des plasmas collisionnels, p. [4] de la couv. (dir. de recherche au CNRS Grenoble, responsable au Laboratoire de physique subatomique et de cosmologie) | |
Le social et le littéraire : anthologie | |
Study of plasma/polymer interactions. Influence of physical and chemical properties of polymers. Application to dry anisotropic development. | |
Temperature effects in plasma etching : fundamentals and applications. |