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Gautherin, G.
VIAF ID: 216416856 ( Unknown Name Type )
Permalink: http://viaf.org/viaf/216416856
Preferred Forms
- 100 1 _ ‡a Gautherin, G.
Works
Title | Sources |
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Characterization of dielectric nitrides films deposited by reactive ion beam sputtering : microelectronics applications. | |
Confinement d'ions par un champ électrique HF à symétrie quadrupolaire : application à la spectrométrie de masse | |
Dépôt de diamant par CVD assistée par plasma micro-onde | |
Élaboration de couches minces métalliques sur semiconducteur par méthodes ioniques : caractérisation des films et de leurs interfaces | |
Electricité, électronique. à l'usage des étudiants du 1er cycle DUES, DUT, préparation aux grandes Ecoles | |
Metal layers deposited by ion methods : characterization of the films and of the contacts. |