Sadeghi, Nader, 19..-...., physicien
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Works
Title | Sources |
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Caractérisation du procédé plasma de pulvérisation cathodique magnétron à ionisation additionnelle pour la synthèse de couches minces | |
Caracterisation of ionized magnetron sputtering plasma for thin film deposition. | |
Characterisation of different plasmas by using tuneable lasers : analysis of the optical saturation effect in CRDS experiments and the gas temperature measurement in a Helicon reactor. | |
Contribution à l'étude expérimentale des processus régissant l'évolution des espèces présentes au sein d'un milieu ionisé par la technique de post-décharge : application aux gaz rares, en particulier à l'argon et à l'oxyde de carbone | |
Corona discharge in liquid et gaseous helium under the intense electrical field. | |
Développement, caractérisation et optimisation d'une source plasma pour le traitement de liquides | |
Etude de la gravure profonde du silicium dans un réacteur haute-densité micro-onde de type propagatif | |
Etude des collisions réactives entre atomes de cuivre et composés halogènes | |
Étude des différents processus de désexcitation des atomes métastables de l'hélium au sein d'un milieu ionisé | |
Etude des mécanismes de formation de la zone d'ionization secondaire en post-décharge d'un plasma micro-onde d'azote | |
Etude du transport et de la formation de particules pendant l'étape microélectronique de gravure assistée plasma | |
Generation and transport studies of contaminative particles in semiconductor etching plasma processes. | |
Interactions des atomes de fluor et des radicaux d'un plasma de CF4 avec une surface de polymère | |
Interactions entre les plasmas de gravure à couplage inductif et les parois du réacteur | |
Investigation of polysilicon gate etching mechanisms high density plasmas for deep submicron CMOS technologies : characterization of plasma-induced damage in MOS structures . | |
Mesure de probabilités de transition et étude des processus de transfert collisionnel entre les niveaux 6s' et 6p du xénon | |
Plasma-reactor walls interactions during etching processes by inductive discharge | |
Réaction des atomes métastables de gaz rares (Ar*(3p2,0), Kr*(3p2) et Xe*(3p2)) avec le silane | |
Relaxation rapide de l'énergie dans la post‐luminescence d’une décharge capillaire nanoseconde dans les mélanges azote/oxygène. | |
Spectroscopie d'émission d'un plasma crée par des décharge couronne dans l'hélium | |
Study o plasma-wall interactions during etching o silicon in HBr/Cl2/O2 plasmas | |
Study of a cold atmospheric pressure plasma micro jet. | |
Study of microdischarges as a source of intense ultraviolet radiation. | |
Study of reactive collisions between copper atoms and halogen compounds. | |
Study of the formation of the short-live afterglow (SLA) of a nitrogen microwave discharge. | |
Theoretical and experimental study of a micro hollow cathode discharge in argon at intermediate pressure. |