Goullet, Antoine
VIAF ID: 197856691 ( Personal )
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Works
Title | Sources |
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Conception, réalisation et caractérisation de composants photoniques intégrés à base de matériaux diélectriques élaborés par procédés plasmas | |
Contribution of ECR microwave excitation to reactive sputtering for SiCxNy˸H thin film deposition, study of optical and electrical properties. | |
Couches minces nano-composites déposées par plasma pour les récepteurs des centrales solaires thermodynamiques | |
Daytime radiative cooling : theoretical development and experimental conception of a device base of thin layers. | |
Dépôt de couches minces de TiO2 – SiO2 par association plasma et sol-gel : impact du procédé de dépôt et de la composition sur les propriétés, application à l'optique intégrée | |
Dépôt de couches minces par plasma pulsé radiofréquence et basse pression en mélange hexaméthyldisiloxane / oxygène | |
Design, fabrication and characterization of integrated photonic devices based on dielectric materials grown by plasma processes. | |
Development, process integration and modeling of thin films integrated passive component in CMOS technology. | |
Développement de procédés de gravure isotrope de Silicium sélectivement au silicium Germanium pour des applications CMOS sub 10nm | |
Développement de systèmes de contrôle in situ des propriétés optiques de filtres interférentiels | |
Développement, intégration et modélisation de composants passifs intégrés en couches minces dans une filière CMOS | |
Effect of thermal annealing on low-k dielectrics for iBEOL in view of 3D sequential integration. | |
Effet de recuits thermiques sur des diélectriques à faible permittivité pour des applications Back-End-of-Line intermédiaire en vue d'une intégration 3D séquentielle | |
Effets d'antenne sur transistors FDSOI à film ultra mince issus de technologies 28nm et en deçà | |
Elaboration and characterization of thin film materials for High density integrated resistor and capacitor in CMOS Technology. | |
Elaboration and wideband frequency charaterization of « high-k » materials in a « MIM » configuration. | |
Élaboration de couches minces diélectriques d’oxydes de titane et de silicium à forte permittivité et indice optique par procédé plasma PECVD basse pression | |
Elaboration et caractérisation de matériaux en couches minces pour l'intégration de résistances et condensateurs de fortes valeurs en technologie CMOS | |
Elaboration of TiN/HfO2/TiN structures by ion assisted Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition for the fabrication of ferroelectric memories. | |
Élaboration par plasma d'hexaméthyldisiloxane de couches minces à faible constante diélectrique pour applications aux interconnexions en CMOS | |
Etude de la passivation de surface du silicium cristallin type P par dépôt de couches atomiques d'alumine pour application aux cellules solaires à haut rendement | |
Etude des commutations de résistance de l'oxyde d'hafnium | |
Etude des interactions plasma/surface pour la compréhension de la croissance de couches minces SiCN : H et leur interface film/substrat : répercussions sur leurs propriétés | |
Etude des modes infra-rouge actifs dans TISbS2 par spectrométrie à transformée de Fourier | |
Etude des propriétés de couches minces d'oxyde de titane déposées par procédés plasmas (PECVD, pulvérisation magnétron réactive DC et HPPMS) | |
Lattice dynamics of berlinite: infrared and raman activity. | |
Mécanismes de vieillissement liés à la pénétration d'humidité dans les matériaux diélectriques à faible permittivité des interconnexions | |
Moisture-related ageing mechanisms of interconnects low-κ dielectrics. | |
(Nano)composites en revêtement déposés par technologie plasma pour la conversion de l'énergie solaire | |
P-type crystalline silicon passivation using atomic layer deposition of alumina : application to high efficiency solar cells. | |
PACVD/PVD de multicouches sélectives pour la conversion thermodynamique de l'énergie solaire | |
Plasma charging in FDSOI ultra-thin body from 28nm technologies and below. | |
Plasma deposited nanocomposites thin films for CSP receivers. | |
Plasma deposited selective absorber coatings for thermal solar energy conversion. | |
Refroidissement radiatif diurne : développement théorique et conception expérimentale d'un dispositif à base de couches minces | |
Structural and electrical properties of silicon dioxide films grown by low temperature oxygen/tetraethoxysilane plasma on silicon-germanium alloys. | |
Study of charge injection and transport in nanostructured or non-structured dielectric thin films : influence of interfaces. | |
Study of metal oxides (HfO2) for resistive random access memories. | |
Study of plasmas/surfaces interactions for thin films SiCN : H growth understanding and their film/substrate interface : consequences on their properties. | |
Study of properties of titanium oxide thin films deposited by plasma processes (PECVD, DC magnetron sputtering and HPPMS). | |
Synthe sis of dielectrics thin layer of titanium and silicon oxide with high permittivity and optical index by low pressure PECVD plasma Process. | |
Synthèse de couches minces à base de nickel par pulvérisation réactive DC et HiPIMS pour des applications contre la corrosion atmosphérique | |
Synthesis and characterization of SiCxNy.H thin films by ECR microwave plasma assisted CVD using organosilicon precursors. | |
TiO2 mesoporous thin films deposited by atmospheric pressure PECVD towards photovoltaic applications. | |
Towards the development of 3rd generation intermediate bandqap solar cell and photobattery based on Titanium oxo-polymer sol-gel | |
Transferts d'énergie dans des titanates dopés Pr 3+ et application au développement d'afficheurs électroluminescents par pulvérisation cathodique | |
Vers le développement de prototypes de cellules photovoltaïques à bandes intermédiaires et de photobatteries à base de sol-gels photosensibles d'oxyde de titane. |