Zelsmann, Marc, 1976-...., auteur(e) en physique
Marc Zelsmann researcher
Zelsmann, Marc 1976-...
VIAF ID: 194941921 ( Personal )
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Works
Title | Sources |
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Advanced lithography by self-assembly of PS-b-PDMS and associated plasma ething : application to the fabrication of functional graphene nanoribbons arrays. | |
Auto-assemblage générique de nanofils de silicium dans une matrice d'alumine nanoporeuse assisté par nanoimpression | |
Combinaisons de procédés lithographiques ascendants et descendants pour la fabrication de nanostructures sur grandes surfaces pour la photonique. | |
Cristaux photoniques en silicium sur isolant pour le guidage, le filtrage, l'émission et l'extraction de lumière | |
Développement d'une technologie hybride à base de microbilles pour la détection d'anticorps IgE : vers le diagnostic d'allergies | |
Iterative self-assembly of nanostructured block copolymer thin films, toward the development of functional three-dimensional structures with nanometric periodicity | |
Lithographie à très haute résolution par l'auto-assemblage du PS-b-PDMS et les gravures plasma associées : application à la fabrication de matrices de nanorubans de graphène | |
Materials and anti-adhesive issues in UV-NIL | |
Matériaux et problématique d’adhésion dans l’UV-NIL. | |
Self-assembly of carbohydrate-based brush-like block copolymers : colored biomaterials and photonic crystals. | |
Self-assembly silicon nanowires in nanoporous matrix of alumina obtained with nanoimprint process. | |
Silicon on insulator photonic crystal guides, filters, planar micro-cavities and light extractors. | |
Synergetic combination of top-down and bottom-up lithography processes for large scale nanostructures applied to photonics | |
Towards high-chi block copolymers at the industry scale : routes for a possible integration as a new nanostructuring technology | |
Vers les copolymères à blocs à forte incompatibilité dans l'industrie : des voies pour l'intégration en tant que nouvelle technologie de nanostructuration. |