Despiau-Pujo, Emilie, 1983-...
Emilie Despiau-Pujo chercheur
VIAF ID: 189785860 ( Personal )
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Works
Title | Sources |
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Apports de la dynamique moléculaire pour l'étude des plasmas poussiéreux | |
Atomistic simulations of H2 and He plasmas modification of thin-films materials for advanced etch processes | |
Contributions of molecular dynamics for the study of dusty plasmas. | |
Cryo-Atomic Layer Etching by plasma : mechanisms and processes. | |
Cryo-gravure de couches atomiques par plasma : mécanismes et procédés | |
Etching of III-V semiconductors in inductively coupled chlorine plasmas. | |
Gravure des semi-conducteurs III-V par plasmas inductifs chlorés | |
Investigation de l'iode comme propergol pour la propulsion ionique à grilles | |
Investigation of iodine plasmas for space propulsion applications. | |
Iodine as a propellant for electric gridded propulsion systems. | |
MD simulation of H2 plasma/graphene interaction for innovative etching processes development. | |
Molecular dynamics study of volume and surface processes in argon-methane radio frequency discharges. | |
Simulation Atomistique pour procédés de gravure plasma avancés : application à la gravure ONO des produits mémoires Flash | |
Study of negative ions surface production in cesium-free H2 and D2 plasmas | |
Vers une gravure plasma de précision nanométrique : simulations de dynamique moléculaire en chimie Si-Cl |