Clergereaux, Richard, 19..-....
Clergereaux, Richard
VIAF ID: 181167167 ( Personal )
Permalink: http://viaf.org/viaf/181167167
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Works
Title | Sources |
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Deposition method combining a reactor-injector and a low pressure plasma process : towards polyvalent thin films for aeronautic. | |
Dépôt de couches minces de TiO2 – SiO2 par association plasma et sol-gel : impact du procédé de dépôt et de la composition sur les propriétés, application à l'optique intégrée | |
DEPOT ET ETUDE DE COUCHES DE CARBAZOLE ELECTROPOLYMERISE POUR L'ELABORATION DE DIODES ELECTROLUMINESCENTES ORGANIQUES | |
Elaboration by plasmas processes and characterization of hydrogenate amorphous carbons with optical properties. | |
Formation et transport de poussières dans un plasma basse pression magnétisé | |
Nanoparticle transport in a magnetron discharge plasma. | |
New technology based on H2 and He plasmas to control etching of ultrathin layers at a nanometer scale. | |
Nouvelle technologie utilisant les plasmas H2 et He pour contrôler la gravure de couches ultraminces à l'échelle nanométrique | |
Particle formation in acetylene microwaves multipolar plasma excited by distributed electron cyclotron resonance discharges : study of carbon-carbon nanocomposite materials and their applications. | |
Plasma et son environnement, plasmas froids en France et au Québec | |
Plasmas froids. Interactions plasma-surface, modèles, diagnostics et procédés | |
Procédé de dépôt couplant un réacteur-injecteur et un plasma basse pression : vers le dépôt de couches minces multifonctionnelles pour l'aéronautique | |
Procédé de dépôt et transition vers un plasma poudreux en plasma microonde multipolaire excité à la résonance cyclotronique électronique répartie de méthane | |
Transparent conductive oxyde of ZnO : V from nanoparticles target : from pulsed laser deposition to a dual-frequency dielectric barrier discharge process at atmospheric pressure. |