Analyses of different strategies for metal - high k gate etch processes involved in the 45 and 32 nm nodes. |
|
Caractérisation et développement d'un procédé de gravure séquentiel contrôlé à l'échelle nanométrique |
|
Characterization and development of a nanoscale controlled sequential etching process for SiN spacers. |
|
Characterization by Fourier transform infrared spectroscopy of chemical reactions between post-discharge and organosilicons precursors : case of 3-aminopropyltriethoxysilane. |
|
Conception, étude et optimisation de nouvelles sources plasma à la résonance cyclotronique électronique : application aux dépôts par voie chimique et par pulvérisation |
|
Couches minces d'oxydes métalliques et d'oxydes métalliques-siliciés déposées par procédé plasma basse pression : étude comparative des couches réalisées à partir de zirconium (IV) tert-butoxide et titanium (IV) isopropoxide |
|
Couches minces nanocomposites contrôlées pour un nouveau système d'administration de médicaments pour des implants cardiovasculaires : décomposition des précurseurs organiques et transport des nanoparticules dans un plasma de décharge à barrière diélectrique à pression atmosphérique |
|
La décharge luminescente comme outil analytique : influence du taux d'émission d'électrons secondaires sur ses caractéristiques |
|
Dépôt de matériaux à changement de phase par PE-MOCVD à injection liquide pulsée pour des applications mémoires PCRAM |
|
Design, study and optimization of new plasma sources involving electron cyclotron resonance (ECR) : application: deposition by plasma enhanced chemical vapor deposition and sputtering. |
|
Development of damage-free plasma etching processes for GaN based power electronics. |
|
Développement de micro-sources d'énergie pour l'alimentation de micro-systèmes radio-fréquence |
|
Développement de procédés de gravure plasma sans dommage pour l'électronique de puissance à base de GaN |
|
Elaboration by plasmas processes and characterization of hydrogenate amorphous carbons with optical properties. |
|
Etude de la gravure des contacts en présence d'un double masque pour les nœuds technologiques avancés |
|
Etude de procédés plasmas pour le retrait de résine implantée pour les filières CMOS et photonique |
|
Etude des interactions plasma/surface pour la compréhension de la croissance de couches minces SiCN : H et leur interface film/substrat : répercussions sur leurs propriétés |
|
Etude physico chimique fine de couches minces de polymère-plasma d'organosilicié. Application à la détection sélective des COV BTEX. |
|
Functionalization study of porous coordination polymers (MOFs) by an impulse dielectric barrier discharge (I-DBD) plasma process. |
|
Glow discharge as analytical tool : influence of secondary electron emission coefficient on its features. |
|
Growth of Nano-Crystalline Diamond (NCD) by plasma processes in matricial elementary microwave plasma sources (MEPS). |
|
Heteroepitaxial diamond films on Ir/SrTiO₃/Si (001) : a pathway towards larger substrates. |
|
Microplasma micro-ondes en cavité résonnante à la pression atmosphérique : caractérisation et application à la nanostructuration de surface |
|
(Nano)composites en revêtement déposés par technologie plasma pour la conversion de l'énergie solaire |
|
Organosilicon plasma deposition on microstructured substrate by microwave low pressure plasma and atmospheric pressure Townsend discharge. |
|
Les oxynitrures de silicium déposés par pulvérisation en gaz réactif pulsé pour des dispositifs antireflets à gradient d'indice de réfraction |
|
PACVD haute densité d'organo siliciés pour la réalisation de couches minces siCN : h antireflet et de passivation de Cellules PVSilicium cristallin |
|
PACVD/PVD de multicouches sélectives pour la conversion thermodynamique de l'énergie solaire |
|
Particle formation in acetylene microwaves multipolar plasma excited by distributed electron cyclotron resonance discharges : study of carbon-carbon nanocomposite materials and their applications. |
|
PECVD organosilicate thin films for gas sensor functionalization. |
|
Plasma deposited nanocomposites thin films for CSP receivers. |
|
Plasma deposited selective absorber coatings for thermal solar energy conversion. |
|
The Polyakov, Nambu and Jona-Lasinio model and its applications to describe the sub-nuclear particles. |
|
Silicon oxynitride films deposited by reactive gas pulsing sputtering process for graded multilayer antireflective systems. |
|
Study of organometallic thin films deposited by low pressure plasma process from zirconium tert butoxide. |
|
Study of plasma processes for stripping of implanted photoresist for CMOS and photonics applications. |
|
Study of plasmas/surfaces interactions for thin films SiCN : H growth understanding and their film/substrate interface : consequences on their properties. |
|
Study of the contact etching with a double patterning strategy for advanced technological nodes. |
|
Synthesis and characterization of SiCxNy.H thin films by ECR microwave plasma assisted CVD using organosilicon precursors. |
|
Synthesis of ruthenium oxide nanostructures by atmospheric pressure microwaves afterglow. |
|
TiO2 mesoporous thin films deposited by atmospheric pressure PECVD towards photovoltaic applications. |
|
Towards a technological rupture in plasma processing for material patterning with sub-nm precision. |
|
Vers une rupture technologique des procédés plasma pour la structuration de la matière avec une précision sub-nanométrique |
|